特許

J-GLOBAL ID：200903040934008038

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 白川 浩司 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦 ,  河辺 保雅 ,  坂口 新治
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267491
公開番号（公開出願番号）：特開平8-129255
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】【目的】 高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくい、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない(パーティクルの増加のない)極めて優れた保存安定性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及び直鎖状に芳香環を4〜5つ有しそれぞれの芳香環に水酸基を1個有する化合物で且つ分子内にシクロアルキル基が存在するポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂および下記一般式(I)で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R11;同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、もしくはシクロアルキル基を表し、少なくとも一つはシクロアルキル基である。A;【化2】R12;水素原子、アルキル基、m;2または3を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-185327   出願人：日本ゼオン株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338926   出願人：日本ゼオン株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-312269   出願人：住友化学工業株式会社