ポジ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338926
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159990
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】感度、残膜率、解像度、パターン形状などの諸特性のバランス優れ、特に1μm以下の微細加工に適したポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 (a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)特定のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルからなる感光剤、及び(c)フェノール性ヒドロキシル基を持つ芳香族化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)下記の一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルからなる感光剤、及び(c)フェノール性ヒドロキシル基を持つ芳香族化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】k:1または2である。m:1または2である。R1〜R4:ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。R5〜R10:水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。X:単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CO2-、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、フェニレン、【化2】(R11及びR12:水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、または置換アリール基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。)、【化3】(R13〜R16:水素原子またはアルキル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。n:1〜5の整数である。)、または【化4】(R17〜R20:水素原子またはアルキル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。)からなる連結基である。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-285351
特開平3-228057
感光性化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-055880 出願人：ソニー株式会社

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