特許
J-GLOBAL ID:200903040939849197

電気光学装置および電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-128053
公開番号(公開出願番号):特開2002-323705
出願日: 2001年04月25日
公開日(公表日): 2002年11月08日
要約:
【要約】【課題】 製造コストの増大を最小限に抑えながら、光拡散機能を備えた光反射膜を好適な状態に形成することのできる電気光学装置、およびそれを備えた電子機器を提供すること。【解決手段】 アクティブマトリクス型の反射型あるいは半透過・半反射型の電気光学装置100において、アレイ基板10では、光反射膜8aの表面には、下地保護膜11a、ゲート絶縁膜2a、走査線3a、第1層間絶縁膜4a、データ線6a、第2層間絶縁膜5aと同層の薄膜が所定パターンで残された凹凸形成用薄膜11g、2g、3g、4g、6g、5gの段差や凹凸によって形成された凹凸パターン8gが形成されているので、対向基板20から入射した光を拡散させながら、対向基板20に向けて反射させることができる。
請求項(抜粋):
電気光学物質を挟持する基板上には、各画素毎に少なくとも、一つ又は複数の配線に電気的に接続する画素スイッチング用のアクティブ素子と、光反射膜とを備えた電気光学装置において、前記光反射膜の下層側のうち、当該光反射膜と平面的に重なる領域には、前記一つ又は複数の配線、およびそれらの配線の層間又は上層又は下層に形成された絶縁膜のうちの少なくとも1層と同層の薄膜が所定のパターンで選択的に形成された凹凸形成用薄膜と、当該凹凸形成用薄膜の非形成領域とが設けられ、前記光反射膜の表面には、前記凹凸形成用薄膜の形成領域と非形成領域とによって凹凸パターンが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
IPC (11件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/30 330 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 349 ,  G09F 9/30 ,  G09F 9/35 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H04N 5/66 102
FI (10件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/30 330 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 349 D ,  G09F 9/30 349 Z ,  G09F 9/35 ,  H04N 5/66 102 A ,  H01L 29/78 612 Z
Fターム (100件):
2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA41Z ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091LA12 ,  2H091LA19 ,  2H091LA20 ,  2H092GA29 ,  2H092JA03 ,  2H092JA24 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092JA46 ,  2H092JB22 ,  2H092JB58 ,  2H092KA04 ,  2H092KA05 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA08 ,  2H092MA13 ,  2H092MA19 ,  2H092MA29 ,  2H092MA30 ,  2H092MA41 ,  2H092NA03 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092PA11 ,  2H092PA12 ,  2H092PA13 ,  2H092QA07 ,  2H092QA10 ,  5C058AA06 ,  5C058AB02 ,  5C058BA35 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA14 ,  5C094DA15 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA06 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094ED15 ,  5C094FB12 ,  5C094FB15 ,  5F110AA16 ,  5F110AA30 ,  5F110BB02 ,  5F110BB04 ,  5F110CC01 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD13 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE28 ,  5F110EE44 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF29 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG25 ,  5F110GG45 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ04 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL06 ,  5F110HL07 ,  5F110HL12 ,  5F110HL23 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN35 ,  5F110NN72 ,  5F110PP03 ,  5F110QQ11
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る