マイクロ波プラズマプロセス装置、プラズマ着火方法、プラズマ形成方法及びプラズマプロセス方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-094277
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299241
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】プラズマ着火を容易に且つ迅速に行うことのできるマイクロ波プラズマプロセス装置及びプラズマ着火方法を提供することを課題とする。【解決手段】マイクロ波プラズマプロセス装置10に、マイクロ波によるプラズマ着火を促進するプラズマ着火促進手段を設ける。プラズマ着火促進手段は、真空紫外光を発生する重水素ランプ30と、真空紫外光を透過してプラズマ励起用空間26に導く透過窓32とを有する。透過窓32は凸レンズとして構成され、真空紫外光を集束してプラズマ励起ガスの電離を促進する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波によりプラズマを発生してプラズマプロセスを行うマイクロ波プラズマプロセス装置であって、マイクロ波によるプラズマ着火を促進するプラズマ着火促進手段を有することを特徴とするマイクロ波プラズマプロセス装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/511 , H01L 21/265 603 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (6件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 H , C23C 16/511 , H01L 21/265 603 A , H05H 1/46 B , H01L 21/302 B

Fターム (56件)：

4G075AA24 , 4G075BC01 , 4G075BD03 , 4G075BD14 , 4G075BD26 , 4G075CA26 , 4G075CA33 , 4G075CA36 , 4G075CA38 , 4G075CA39 , 4G075CA62 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EB34 , 4G075EB41 , 4G075EC02 , 4G075FC04 , 4G075FC15 , 4K030AA13 , 4K030AA14 , 4K030AA16 , 4K030AA17 , 4K030AA18 , 4K030BA29 , 4K030BA40 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030FA14 , 4K030FA15 , 4K030KA30 , 4K030KA37 , 5F004AA16 , 5F004BA13 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BC08 , 5F004CA01 , 5F004CA07 , 5F004DA00 , 5F004DB01 , 5F045AA09 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AB34 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AF03 , 5F045EE14 , 5F045EF05 , 5F045EH01 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平2-151021
特開平2-151021
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-332571 出願人：日本電気株式会社

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