ペリクルおよびペリクルの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177906
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005169
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】フィルターを設けた場合に、フィルターがペリクル貼付用治具等に接触することによるフィルターの損傷・摩耗等が生じることがなく、これによる異物が発生しないペリクルおよびこのようなペリクルの製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】少なくとも1か所の切断部と、この切断部に配置されたフィルターとを有するペリクル枠を具備するペリクルである。

請求項（抜粋）：

少なくとも1か所の切断部と、この切断部に配置されたフィルターとを有するペリクル枠を具備することを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 J , H01L 21/30 502 P

Fターム (2件)：

2H095BB30 , 2H095BC38

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-316126 出願人：株式会社日立製作所
フィルター付ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-222944 出願人：信越化学工業株式会社
特開平4-291347

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