リソグラフ装置の基板ホルダ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-072318
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284440
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】リソグラフ投影装置に使用する中間基板ホルダで、自身を前記リソグラフ投影装置の標準基板ホルダで保持することができ、非標準基板を保持することができるホルダを提供する。【解決手段】非標準基板を保持する手段は、真空保持手段および機械的把持手段の一方または両方で構成することができる。真空保持手段は、非標準基板を配置することができる真空空間と、真空空間の縁の周囲にあって、真空空間を閉止し、非標準基板と密封状態で接触する障壁手段と、真空空間を真空に曝す手段とで構成される。機械的把持手段は、2本以上の静止位置決めピンで構成され、これは、自身上に少なくとも1本の滑動位置決めピンを設け、滑動位置決めピンが静止ピンに向かって移動するようバイアスを加える滑動可能機構と対向する。

請求項（抜粋）：

リソグラフ投影装置であって、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段は所望のパターンに従って投影ビームのパターンを形成する働きをし、-第1タイプの基板を保持する第1保持手段を設けた基板テーブルと、-パターン形成したビームを前記基板の標的部分へ投影する投影システムとを備え、第1保持手段によって保持することができ、第2タイプの基板を保持する第2保持手段を設けた中間基板ホルダを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 N , H01L 21/30 503 C

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-102849
真空吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-046786 出願人：京セラ株式会社
共用試料ホールダ
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-096100 出願人：株式会社日立製作所

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