特許
J-GLOBAL ID：200903041203469687

液浸上層膜用重合体および液浸用上層膜形成組成物

発明者：
千葉 隆

千葉 隆 について

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杉浦 誠

杉浦 誠 について

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中川 大樹

中川 大樹 について

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堂河内 寛

堂河内 寛 について

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宇高 友広

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出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-163537
公開番号（公開出願番号）：特開2006-335916
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 248nm(KrF)および193nm(ArF)の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。【解決手段】 フッ素原子含む基をその側鎖に有する繰返し単位を含み、水との接触角が90°以上となる膜を形成することができ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であることを特徴とする液浸上層膜用重合体であって、この重合体は、液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための液浸上層膜形成組成物の樹脂成分として利用できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フッ素原子含む基をその側鎖に有する繰返し単位を含み、水との接触角が90°以上となる膜を形成することができ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であることを特徴とする液浸上層膜用重合体。
IPC (3件)：
C08F 220/22 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
C08F220/22 ,  G03F7/11 501 ,  H01L21/30 515D
Fターム (42件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BG00 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ03Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM14Q ,  4J100AM21Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BB11P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA36 ,  4J100JA38 ,  5F046BA04 ,  5F046DA07
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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