電子ビーム描画方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249125
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074690
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】電子ビームのぼけによって所望のパターンをレジスト材料に形成できなくなる現象を回避し得る電子ビーム描画方法を提供する。【解決手段】電子ビームをレジスト材料に照射して、所望のパターンを該レジスト材料に描画する電子ビーム描画方法であって、レジスト材料を照射する電子ビームの寸法と、電子光学系の収差に起因した電子ビームのぼけ量との関係に基づき、最適電子ビーム照射量を予め求めておき、レジスト材料に描画すべきパターンの寸法に応じて、該求められた最適電子ビーム照射量の電子ビームをレジスト材料に照射する。

請求項（抜粋）：

電子ビームをレジスト材料に照射して、所望のパターンを該レジスト材料に描画する電子ビーム描画方法であって、レジスト材料を照射する電子ビームの寸法と、電子光学系の収差に起因した電子ビームのぼけ量との関係に基づき、最適電子ビーム照射量を予め求めておき、レジスト材料に描画すべきパターンの寸法に応じて、該求められた最適電子ビーム照射量の電子ビームをレジスト材料に照射することを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 M , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-340216
電子ビーム描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-079117 出願人：株式会社東芝
特開平4-278516

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