パターン検査方法及びパターン検査装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022144
公開番号（公開出願番号）：特開2003-223630
出願日： 2002年01月30日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：

【要約】【課題】画像比較によるパターン検査技術において、比較画像のずれ量を高精度かつ高速に検出し、異物や欠陥の高感度検出と高速検査処理を可能とする。【解決手段】検査対象画像と参照画像とをそれぞれ複数画像領域に分割し、分割画像間での信頼性の高い位置ずれ情報を用いて該両画像全体間の位置ずれ量を決定する。また、位置ずれ量の演算領域、演算順序、画像のサーチ範囲などを予めスケジューリングしておく。

請求項（抜粋）：

検査対象画像と参照画像とを比較することにより検査対象物上のパターンを検査するパターン検査方法であって、上記検査対象物の検査対象領域に対応した検査対象画像と、比較の相手となる参照領域に対応した参照画像とを、それぞれ複数の領域に分割し、該分割された複数領域のうち一部のものにつき該両画像間の位置ずれ量を演算し、該演算結果から画像全体についての該両画像間の位置ずれ量を求める第1のステップと、該求めた位置ずれ量に基づき該両画像を互いに位置合せする第2のステップと、該位置合せした該両画像を比較し相互間の差異を検出する第3のステップと、を経て、上記パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (5件)：

G06T 1/00 305 , G01B 11/00 , G01N 21/956 , G06T 7/00 300 , H01L 21/66

FI (5件)：

G06T 1/00 305 A , G01B 11/00 H , G01N 21/956 A , G06T 7/00 300 E , H01L 21/66 J

Fターム (47件)：

2F065AA03 , 2F065AA12 , 2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ34 , 2F065QQ38 , 2F065RR07 , 2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051ED04 , 2G051ED08 , 2G051ED11 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DJ18 , 5B057AA03 , 5B057BA19 , 5B057BA24 , 5B057CA12 , 5B057CC02 , 5B057CH01 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DA16 , 5B057DB02 , 5B057DC33 , 5L096BA03 , 5L096CA24 , 5L096DA02 , 5L096EA14 , 5L096FA69 , 5L096GA19 , 5L096HA07 , 5L096LA04 , 5L096LA11

引用特許：

審査官引用 (4件)

比較検査における画像の位置合せ方法、比較検査方法及び比較検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-184563 出願人：株式会社日立製作所
半導体検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-357577 出願人：富士通株式会社
画像比較によるパターン検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-193676 出願人：株式会社日立製作所

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