特許
J-GLOBAL ID：200903038786093050

基板収納カセット、インターフェイス機構および基板処理装置

発明者：
大谷 正美

大谷 正美 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-249748
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092702
出願日： 1995年09月27日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 基板処理装置における清浄性を確保するとともに処理効率を高める。【解決手段】 現像処理ユニット160と露光処理ユニット170とが、それぞれの操作部を直線的に整列して配列されている。処理ユニット160,170の間にはインターフェイス機構IFDが設けられる。インターフェイス機構IFDは、基板の周縁部を支持して搬送する基板搬送装置TR2と、3本のピンで基板の裏面を支持し、基板バッファとして使用される基板収納カセット120とを有する。インデクサIDAからの基板の払い出しに際しては、処理ユニット160,170との間の基板の往復経路における基板存在枚数が考慮された制御がなされる。
請求項（抜粋）：
基板を複数枚収納する基板収納カセットにおいて、それぞれが1枚の基板を収容可能な複数の基板収納部が積層され、前記基板収納部のそれぞれは複数の支持部材を有しており、前記基板収納部のそれぞれにおいて、前記複数の支持部材の先端が前記基板の平面サイズより小さい略水平の範囲内において非直線状に配列されて前記基板の裏面を支持可能とされていることを特徴とする基板収納カセット。
IPC (5件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027 ,  B65D 85/86
FI (8件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 V ,  B65G 49/07 C ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 503 E ,  H01L 21/30 569 D ,  B65D 85/38 R
引用特許：
審査官引用 (7件)
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