特許
J-GLOBAL ID：200903041457601038
堆積膜形成方法及び堆積膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-166600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-073173
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：
【要約】【課題】基体以外に付着した膜等の生成物が基体へ飛散することを防止して、膜厚および膜質が均一な堆積膜を定常的に形成し、画像欠陥を激減しうること、また、膜の諸物性、堆積膜形成速度、再現性及び膜の生産性を向上させ、歩留まりを飛躍的に向上させることが可能な堆積膜形成方法及び装置を提供すること。【解決手段】補助基体に装着した基体の上部に補助基体キャップを設け、減圧気相成長法により、該基体の表面に堆積膜を形成するに際して、該基体の上端部における温度と、該基体の上部に設けられている該補助基体キャップの下端部における温度との最大温度差が、所定以下となるようにして該補助基体キャップに堆積する堆積膜の密着性を向上させ、堆積膜を形成する。
請求項（抜粋）：
補助基体に装着した基体の上部に補助基体キャップを設け、減圧気相成長法により、該基体の表面に堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、該基体の上端部における温度と、該基体の上部に設けられている該補助基体キャップの下端部における温度との最大温度差が、所定以下となるようにして該補助基体キャップに堆積する堆積膜の密着性を向上させ、堆積膜を形成することを特徴とする堆積膜形成方法。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, G03G 5/08 360
, H01L 21/205
C23C 16/44 J
, G03G 5/08 360
, H01L 21/205
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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