特許
J-GLOBAL ID：200903041539680530
表面処理装置及びその処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-275209
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090370
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、被処理物の表面処理に利用するオゾンの発生および供給を安定的に行ない、特定波長域の紫外光を効率よく照射することにより、表面処理に有効な活性酸素により有機物の分解、除去等が可能で、処理効率が高く、汎用性がある表面処理装置を提供することを目的とし、特に、低価格で汎用性がある低圧水銀ランプを用いることにより、処理効率が高く、コストを低減した紫外線洗浄装置あるいは紫外線改質装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、装置本体内に配置した波長200〜300nmの紫外線を有効に放射する紫外線ランプと該装置本体とは独立して設置したオゾン生成装置とからなり、前記装置本体内の前記オゾン生成装置から供給されるオゾン雰囲気中において、被処理物に主として波長254nmの紫外光を照射することにより、活性酸素を生成して前記被処理物の表面を処理することを特徴とし、特に前記紫外線ランプは、発光管材料として溶融石英ガラスを用いた低圧水銀ランプであることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
装置本体内に配置した波長200〜300nmの紫外線を有効に放射する紫外線ランプと、該装置本体とは独立して設置したオゾン生成装置とからなり、前記装置本体内の前記オゾン生成装置から供給されるオゾン雰囲気中において、被処理物に主として波長254nmの紫外光を照射することにより、活性酸素を生成して前記被処理物の表面を処理することを特徴とする表面処理装置。
IPC (5件)：
B08B 6/00
, A61L 2/10
, C23G 5/00
, C08J 7/00 304
, H01L 21/3065
B08B 6/00
, A61L 2/10
, C23G 5/00
, C08J 7/00 304
, H01L 21/302 N
