特許
J-GLOBAL ID：200903041609484849
プラズマの発生及びスパッタのためのコイル
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-155665
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060638
出願日： 1997年05月09日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【解決手段】 半導体製造系におけるプラズマチャンバのためのスパッタ用コイルを提供する。前記スパッタ用コイルは、エネルギーをプラズマ中に結合し、そしてまた、標的からワークピース上にスパッタされる物質を補うために、コイルからワークピース上にスパッタされるスパッタ用物質の供給源を提供する。或いは、複数のコイルを提供して、一つは主としてプラズマ中にエネルギーを結合するためのものとし、そして他の一つは主としてワークピース上にスパッタされるスパッタ用物質の補足の供給源を提供するためのものとしてもよい。
請求項（抜粋）：
基板上に膜層をスパッタ堆積するための装置であって、該装置が、その中に維持され得る基板支持部材を有する減圧チャンバ上記チャンバ内に配置された第一のバイアス可能な標的、及び上記標的と上記基板支持体の間の空間に隣接しかつその空間の周りに実質的に延びている、上記チャンバ内に配置された第二のバイアス可能な標的、を含む装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 S
, H01L 21/203 S
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (11件)
-
特表平5-507963
-
特表平5-507963
-
特表平5-507963
全件表示
前のページに戻る
