特許
J-GLOBAL ID：200903041648655715
積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
梶崎 弘一
, 尾崎 雄三
, 谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-340274
公開番号（公開出願番号）：特開2007-212442
出願日： 2006年12月18日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】検査用偏光フィルタや検査用位相差フィルタを用いて偏光子を有する積層フィルムの欠陥検査を行うに際し、撮影光路中に配置すべき部材を適切な順序で配置する。【解決手段】偏光板1と、光学補償層とが積層された積層フィルム11の欠陥検出方法であって、積層フィルム11のフィルム面の偏光板積層側に配置された光源により光を照射する工程と、フィルム面の光学補償層側に配置された撮像部12により、積層フィルム11の透過光像を撮影する工程と、撮像部12により撮影された透過光像に基づいて、積層フィルム11に存在する欠陥の検出を行う欠陥検出工程とを有し、光源13と撮像部12の間の光路上であって、撮像部13に隣接配置される検査用偏光フィルタ15と、光源13と撮像部12の間の光路上であって、検査用偏光フィルタ15と積層フィルム11の間に配置される検査用位相差フィルタ16と介して撮像部12による撮像が行われる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、偏光板と、光学補償層とを積層して積層フィルムを製造する工程と、
製造された積層フィルムの欠陥検査を行なう工程とを有する積層フィルムの製造方法であって、前記欠陥検査工程は、
積層フィルムの偏光板積層側に配置された光源により、積層フィルムに対して光を照射する工程と、
積層フィルムの光学補償層側に配置された撮像部により、積層フィルムの透過光像を撮影する工程と、
撮像部により撮影された透過光像に基づいて、積層フィルムに存在する欠陥の検出を行う欠陥検出工程とを有し、
光源と撮像部の間の光路上であって、撮像部に隣接配置される検査用偏光フィルタと、
光源と撮像部の間の光路上であって、検査用偏光フィルタと積層フィルムの間に配置される検査用位相差フィルタとを介して前記撮像部による撮像が行われることを特徴とする積層フィルムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/89 H
, G01N21/892 A
2G051AA41
, 2G051AB02
, 2G051BA11
, 2G051CA04
, 2G051CB02
, 2G051CC07
, 2G051DA06
, 2G051DA15
, 2G051EA11
, 2G051EA12
