特許
J-GLOBAL ID:200903041831979201

平面プローブ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-266869
公開番号(公開出願番号):特開平11-110792
出願日: 1997年09月30日
公開日(公表日): 1999年04月23日
要約:
【要約】【課題】 光の損失が小さくエバネッセント光を効率良く生じることができ、また機械的強度に優れた平面プローブ及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上に錐状の貫通孔2を形成し、この貫通孔2内にレンズ4を収容することでプローブ5を構成する。そして、このようなプローブ5が複数形成された平面プローブを用いてエバネッセント光による記録再生を行うようにする。
請求項(抜粋):
基板上に錐状の貫通孔が形成され、この貫通孔内にレンズが収容されることで形成されたプローブを有することを特徴とする平面プローブ。
引用特許:
審査官引用 (2件)

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