特許
J-GLOBAL ID:200903041917746609
露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-245981
公開番号(公開出願番号):特開2002-057095
出願日: 2000年08月14日
公開日(公表日): 2002年02月22日
要約:
【要約】【課題】 スループットを低下させることなく、基板の焦点方向の位置を高精度に検出する。【解決手段】 パターンを基板Pに投影する投影光学系と、投影光学系の結像位置に対する基板Pの位置情報を検出光により検出する位置検出装置11、12とを備える。位置検出装置11、12は、基板Pの第1位置P1、P3で反射した検出光を第1位置P1、P3とは離間した第2位置P2、P4に向けて送光する送光部11B、12Bと、第1位置P1、P3と第2位置P2、P4とで反射した検出光を受光する受光部33とを有し、位置検出装置11、12を複数設ける。
請求項(抜粋):
パターンを基板に投影する投影光学系と、該投影光学系の結像位置に対する前記基板の位置情報を検出光により検出する位置検出装置とを備えた露光装置において、前記位置検出装置は、前記基板の第1位置で反射した前記検出光を前記第1位置とは離間した第2位置に向けて送光する送光部と、前記第1位置と前記第2位置とで反射した前記検出光を受光する受光部とを有し、前記位置検出装置を複数設けたことを特徴とする露光装置。
IPC (5件):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 7/20 501
, G03F 9/02
, G12B 5/00
FI (5件):
G01B 11/00 A
, G03F 7/20 501
, G03F 9/02 Z
, G12B 5/00 T
, H01L 21/30 526 B
Fターム (26件):
2F065AA02
, 2F065BB01
, 2F065CC17
, 2F065FF01
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065JJ22
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ18
, 2F065QQ42
, 2F078CA02
, 2F078CA08
, 2F078CB13
, 2F078CC11
, 2H097BA01
, 2H097GB01
, 2H097KA03
, 2H097KA38
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA04
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DB10
引用特許:
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