特許

J-GLOBAL ID：200903042018487217

研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法

発明者： 石飛 健 ,  貴堂 高徳
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 福田 武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-034179
公開番号（公開出願番号）：特開平9-208934
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高密度な磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、フェームドシリカ、硝酸アルミニウムからなる研磨スラリーに、ホスホン酸、フェナントロリン、アセチルアセトンアルミニウム塩の一種若しくは二種以上の混合物であるゲル化防止剤を含有させてなる。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、ヒュームドシリカ、硝酸アルミニウム及びゲル化防止剤からなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (5件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/304 321

FI (6件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 E ,  C09K 3/14 550 L ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A ,  H01L 21/304 321

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 超研摩方法およびそのためのスラリ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-324753   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-021197   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 研磨液及び基体の研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217210   出願人：旭硝子株式会社