特許
J-GLOBAL ID：200903042091874873
光化学気相堆積装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小池 晃
, 田村 榮一
, 伊賀 誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-273539
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107744
出願日： 2002年09月19日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】光源から供給する光の波長条件を緩和させた近接場光CVDを実現する。【解決手段】近接場光を照射することにより基板付近に存在するガスを分解させて当該基板上へ堆積させる光化学気相堆積装置において、ガスの解離エネルギーに相当する光の波長以上である光を光ファイバを先鋭化させた先鋭部を介して出力して近接場光を発生させ、多段階遷移過程を経て解離させて得た分解生成物を基板上に堆積させる。これにより、光源から供給する光の波長条件を緩和させることが可能となる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
近接場光を照射することにより基板付近に存在するガスを分解させて当該基板上へ堆積させる光化学気相堆積装置において、
光源と、
光ファイバを先鋭化させた先鋭部が設けられ、上記光源から供給される光を上記先鋭部を介して出力して上記近接場光を発生させる近接場光プローブとを備え、
上記光源から供給される光の波長は、上記ガスの解離エネルギーに相当する光の波長以上であること
を特徴とする光化学気相堆積装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4K030BA21
, 4K030FA06
, 4K030JA19
, 4K030JA20
, 5F045AA11
, 5F045DA56
