基板処理装置

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮本治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223176
公開番号（公開出願番号）：特開平9-104983
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】専有面積の小さい基板処理装置を提供する。【解決手段】ウェーハ搬送室50のウェーハ搬送室壁53に複数の反応室70を積み重ねて設け、ウェーハ搬送室50のウェーハ搬送室壁54にウェーハ受け渡し室30を設ける。ウェーハ受け渡し室50内には石英製のウェーハ保持具40を設ける。ウェーハ搬送室50、複数の反応室70およびウェーハ受け渡し室30をそれぞれ独立して減圧可能とする。ウェーハ搬送室50の内部にウェーハ搬送真空ロボット60を設ける。半導体ウェハ処理装置1全体を筺体900に収容し、筺体900の内部にはカセット10を載置するカセット棚11を設ける。ウェーハ受け渡し室30とカセット棚11との間にカセット搬送兼ウェーハ搬送機20を設ける。

請求項（抜粋）：

減圧可能な基板搬送室と、基板を処理する基板処理室であって前記基板搬送室の第1の側壁に設けられた基板処理室と、前記基板搬送室の第2の側壁に設けられた基板受け渡し室であって前記基板搬送室とは独立して減圧可能な基板受け渡し室と、前記基板を保持する第1の基板保持手段であって、前記基板受け渡し室内に設けられた第1の基板保持手段と、前記基板を保持する第2の基板保持手段であって、前記基板処理室内に設けられた第2の基板保持手段と、前記基板搬送室内に設けられ、前記基板処理室と前記基板受け渡し室との間で前記基板を搬送可能な第1の基板搬送手段と、前記基板処理室と前記基板搬送室との間に設けられた第1のバルブであって、閉じた場合には前記基板処理室と前記基板搬送室との間を真空的に気密にすることができ、開いた場合には前記基板がその内部を通って移動可能な第1のバルブと、前記基板搬送室と前記基板受け渡し室との間に設けられた第2のバルブであって、閉じた場合には前記基板搬送室と前記基板受け渡し室との間を真空的に気密にすることができ、開いた場合には前記基板がその内部を通って移動可能な第2のバルブと、前記基板受け渡し室の前記基板搬送室が設けられた側とは異なる側に配置された大気圧部と、前記基板受け渡し室と前記大気圧部との間に設けられた第3のバルブであって、閉じた場合には前記基板受け渡し室と前記大気圧部との間を真空的に気密にすることができ、開いた場合には前記基板がその内部を通って移動可能な第3のバルブと、前記大気圧部に設けられたカセット保持手段と、前記大気圧部に設けられた第2の基板搬送手段であって、前記カセット保持手段に保持されるカセットと前記基板受け渡し室との間で前記基板を搬送可能な第2の基板搬送手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 , H01L 21/68

FI (4件)：

C23C 14/56 G , H01L 21/68 A , H01L 21/68 D , H01L 21/68 T

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平3-273606
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-250003 出願人：日新電機株式会社
特開平3-274746

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