特許
J-GLOBAL ID:200903042476069602
電子線マイクロアナライザーの測定データ補正方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
竹本 松司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-218997
公開番号(公開出願番号):特開2002-039976
出願日: 2000年07月19日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】 試料が薄膜や微小部の場合の電子線マイクロアナライザーの測定精度を向上させる。【解決手段】 電子線マイクロアナライザーにより試料上の直線あるいは二次元の走査し、入射電子線の励起で発生するX線を測定して得られる線分析あるいはマッピング分析のX線強度データのデータ処理において、入射電子線の加速電圧に基づいて試料中に含まれる元素毎にX線発生領域を推定する工程と、推定したX線発生領域内の測定対象部分の比率に基づいて測定されたX線強度データを補正し、測定対象部分から発生するX線のX線強度を求める工程とによって測定データを補正する。
請求項(抜粋):
試料上の複数点において、電子線マイクロアナライザーにより入射電子線の励起で発生するX線を測定して得られる多点分析のX線強度データのデータ処理において、入射電子線の加速電圧に基づいて試料中に含まれる元素毎にX線発生領域を推定する工程と、前記推定したX線発生領域内の測定対象部分の比率に基づいて測定されたX線強度データを補正し、測定対象部分から発生するX線のX線強度を求める工程とを備えることを特徴とする、電子線マイクロアナライザーの測定データ補正方法。
IPC (3件):
G01N 23/225
, H01J 37/244
, H01J 37/252
FI (3件):
G01N 23/225
, H01J 37/244
, H01J 37/252 A
Fターム (21件):
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001DA02
, 2G001DA06
, 2G001EA01
, 2G001FA12
, 2G001FA14
, 2G001FA30
, 2G001GA04
, 2G001GA05
, 2G001GA06
, 2G001GA08
, 2G001GA09
, 2G001GA13
, 2G001KA01
, 2G001KA20
, 5C033NN04
, 5C033PP05
, 5C033PP08
引用特許:
審査官引用 (9件)
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元素組成比の異なる微小物質のEPMA定量法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-200720
出願人:日本軽金属株式会社
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特開平1-143129
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特開平1-319238
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電子プローブマイクロアナライザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-171154
出願人:日本電子株式会社
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特許第2712759号
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特許第2730227号
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特許第2730229号
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特許第2775928号
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特許第2787924号
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引用文献:
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