電子線マイクロアナライザーの測定データ補正方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹本松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-218997
公開番号（公開出願番号）：特開2002-039976
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】試料が薄膜や微小部の場合の電子線マイクロアナライザーの測定精度を向上させる。【解決手段】電子線マイクロアナライザーにより試料上の直線あるいは二次元の走査し、入射電子線の励起で発生するX線を測定して得られる線分析あるいはマッピング分析のX線強度データのデータ処理において、入射電子線の加速電圧に基づいて試料中に含まれる元素毎にX線発生領域を推定する工程と、推定したX線発生領域内の測定対象部分の比率に基づいて測定されたX線強度データを補正し、測定対象部分から発生するX線のX線強度を求める工程とによって測定データを補正する。

請求項（抜粋）：

試料上の複数点において、電子線マイクロアナライザーにより入射電子線の励起で発生するX線を測定して得られる多点分析のX線強度データのデータ処理において、入射電子線の加速電圧に基づいて試料中に含まれる元素毎にX線発生領域を推定する工程と、前記推定したX線発生領域内の測定対象部分の比率に基づいて測定されたX線強度データを補正し、測定対象部分から発生するX線のX線強度を求める工程とを備えることを特徴とする、電子線マイクロアナライザーの測定データ補正方法。

IPC (3件)：

G01N 23/225 , H01J 37/244 , H01J 37/252

FI (3件)：

G01N 23/225 , H01J 37/244 , H01J 37/252 A

Fターム (21件)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001BA15 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001EA01 , 2G001FA12 , 2G001FA14 , 2G001FA30 , 2G001GA04 , 2G001GA05 , 2G001GA06 , 2G001GA08 , 2G001GA09 , 2G001GA13 , 2G001KA01 , 2G001KA20 , 5C033NN04 , 5C033PP05 , 5C033PP08

引用特許：

出願人引用 (14件)

元素組成比の異なる微小物質のEPMA定量法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-200720 出願人：日本軽金属株式会社
特開平1-143129
特開平1-319238

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審査官引用 (9件)

元素組成比の異なる微小物質のEPMA定量法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-200720 出願人：日本軽金属株式会社
特開平1-143129
特開平1-319238

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引用文献：

出願人引用 (4件)

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審査官引用 (3件)

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