特許
J-GLOBAL ID：200903042501381551

硬質炭素積層膜とその形成方法

発明者：
寺山 暢之

寺山 暢之 について


出願人/特許権者：
神港精機株式会社

神港精機株式会社 について


代理人 (1件)： 田中 浩 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-021917
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214269
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 金属基材との密着性にすぐれ、耐摩耗性、潤滑性、耐凝着性などが良好な、摺動部品、耐摩耗性部品として応用することのできる硬質炭素積層膜を提供する。【解決手段】 基材1表面に非晶質炭化珪素膜層2、膜密度が2.2〜3.5g/cm3 であるシリコンを含有する高密度炭素膜層3、膜密度が1.5〜2.2g/cm3 であるシリコンを含有する低密度炭素膜層4を真空蒸着室内にて順次形成して硬質炭素積層膜を得る。
請求項（抜粋）：
基材表面に非晶質炭化珪素膜層、膜密度が2.2〜3.5g/cm3 であるシリコンを含有する高密度炭素膜層、膜密度が1.5〜2.2g/cm3 であるシリコンを含有する低密度炭素膜層を順次被覆形成してなることを特徴とする硬質炭素積層膜。
IPC (3件)：
C23C 16/27 ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/04
FI (3件)：
C23C 16/27 ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/04
Fターム (23件)：
4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030BA37 ,  4K030BB05 ,  4K030BB12 ,  4K030CA02 ,  4K030CA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA11 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K044AA03 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BB03 ,  4K044BB04 ,  4K044BB17 ,  4K044BC01 ,  4K044BC05 ,  4K044CA07 ,  4K044CA14 ,  4K044CA71
引用特許：
審査官引用 (6件)
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