パターン検査方法及びパターン検査装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187388
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055218
出願日： 1994年08月09日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】ミクロな欠陥についてもマクロな欠陥についても検出し、欠陥の過剰検出を防止し、欠陥検出性能の変化を防止する。【構成】被検査物、例えばプリント配線基板の配線パターンの検査パターン2に発生する欠陥を検出するパターン検査方法において、予め設定された基準パターン中に存在する最も細いパターンの許容最小値に応じて、該許容最小値よりサイズの小さな欠陥を検出するミクロ欠陥検出工程3、及び許容最小値W以上のサイズの欠陥を検出するマクロ欠陥検出工程103を備える。

請求項（抜粋）：

被検査物の検査パターンに発生する欠陥を検出するパターン検査方法において、予め設定された所定の基準サイズに応じて、該基準サイズよりサイズの小さな欠陥を検出するミクロ欠陥検出工程と、上記基準サイズ以上のサイズの欠陥を検出するマクロ欠陥検出工程と、を含むことを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2件)：

G06T 7/00 , G01N 21/88

引用特許：

審査官引用 (13件)

外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-064141 出願人：富士通株式会社
画像パターンの検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-021986 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
画像欠陥判別処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-264442 出願人：日本電信電話株式会社

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