特許
J-GLOBAL ID：200903042526677943
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-000558
公開番号（公開出願番号）：特開2007-180034
出願日： 2007年01月05日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】アンテナ内に均一な高周波を形成し、処理容器に均一なプラズマを生成できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置121は、環状アンテナ73に囲まれた封止板55の中央部にガス供給管123が設けられたものである。このガス供給管は、その下部が漏斗状に拡径されており、下端部には多数のノズル125...が設けられている。このように、このプラズマ処理装置121にあっては、マイクロ波を処理容器53に供給するアンテナ73が円環状であるため、その中央開口部にガス供給管123を設けることができる。従って、反応性ガス等をウエハWに対して均一に供給することができ、従ってガス供給の不均一による処理のむらを防止することができる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
密閉された処理容器内に設けられ、被処理体を保持する保持手段と、
この保持手段に対向配置され、前記保持手段と対向する面に複数形成されたスロットを介して前記処理容器内に高周波を導入する環状導波管と、
この環状導波管に設けられ、前記環状導波管内に無端環状の進行波を形成する進行波形成手段と、
を具備し、
前記処理容器は、有底筒状をなし、
さらに、前記処理容器の開口部に設けられ、前記処理容器を気密に密閉するとともに、前記環状導波管からの高周波を前記処理容器内部に透過させる誘電体窓を有し、
前記環状導波管の中央開口部から露出する前記誘電体窓の部分に、ガスを前記処理容器に供給するガス供給管の開口部が接続されている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, B01J 19/08
, H01L 21/306
, H01L 21/205
H05H1/46 B
, B01J19/08 E
, H01L21/302 101D
, H01L21/205
4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EB42
, 4G075EE02
, 4G075FC15
, 5F004AA01
, 5F004BB14
, 5F004BB28
, 5F004BC03
, 5F004BD04
, 5F045AA09
, 5F045BB02
, 5F045CA15
, 5F045DP03
, 5F045EE20
, 5F045EF05
, 5F045EH03
