特許
J-GLOBAL ID：200903042558630221

投影露光装置

発明者：
真崎 和生

真崎 和生 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-270601
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116769
出願日： 1996年10月14日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 レチクルマークとウエハマークを同時に高精度に検出してアライメントを行う。【解決手段】 レチクルマークRMとウエハマークWMを撮像する撮像手段Dの撮像面をアライメント系の光軸に対してθだけ傾斜させる。撮像面を光軸に対して傾斜させたことで、レチクルマークの一部及びウエハマークの一部は、各々撮像手段Dの撮像面上の異なる位置でベストフォーカス状態となるため、画像処理手段でそのベストフォーカス位置を検出し、検出されたベストフォーカス位置で各マークを計測することにより、レチクルマークとウエハマークを同時に高精度で検出することができる。
請求項（抜粋）：
レチクルに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記レチクルに形成されたレチクルアライメントマークと前記感光基板に形成された基板アライメントマークを同時に観察して前記レチクルと前記感光基板の位置合わせを行うアライメント系とを含む投影露光装置において、前記アライメント系は、撮像面を該アライメント系の光軸に対して傾斜して配置された撮像手段と前記撮像手段に接続された画像処理手段とを備え、前記画像処理手段は、前記基板アライメントマークのベストフォーカス位置を検出し、検出されたベストフォーカス位置において基板アライメントマークの検出を行うことを特徴とする投影露光装置。
FI (3件)：
H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 F
引用特許：
審査官引用 (4件)
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