特許
J-GLOBAL ID：200903042608104739
無電解スズメッキ浴
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
豊永 博隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-149257
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342743
出願日： 2002年05月23日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 有機スルホン酸と可溶性第一スズ塩とチオ尿素類を基本とする無電解スズメッキ浴において、スズ皮膜の異常粒子化や過剰析出を有効に防止する。【解決手段】 有機スルホン酸として、分子内に水酸基を有する有機スルホン酸のアニオン部分を含み、且つ、アルカンスルホン酸のアニオン部分を含有せず、水酸基を有する有機スルホン酸は、アニオン換算で芳香族オキシスルホン酸/アルカノールスルホン酸=0〜0.1のモル比の混合物であり、可溶性第一スズ塩とアルカノールスルホン酸(アニオン換算)とチオ尿素類の単位リットル当たりの含有モル量が、Sn2+/アルカノールスルホン酸/チオ尿素類=0.01〜2/1.4〜8/0.6〜5である。メッキ浴中にアルカンスルホン酸(アニオン部分)を存在させず、アルカノールスルホン酸か、これと少量範囲内の芳香族オキシスルホン酸を含有させ、且つ、基本の3組成を所定含有モル量(単位リットル当たり)に調整するため、スズ皮膜の異常粒子や過剰析出の発生を防止できる。
請求項（抜粋）：
可溶性第一スズ塩と有機スルホン酸とチオ尿素類を含有する無電解スズメッキ浴において、上記有機スルホン酸として、分子内に水酸基を有する有機スルホン酸のアニオン部分を含み、且つ、アルカンスルホン酸のアニオン部分を含有せず、分子内に水酸基を有する有機スルホン酸は、アニオン換算で芳香族オキシスルホン酸/アルカノールスルホン酸=0〜0.1のモル比の混合物であり、可溶性第一スズ塩(Sn2+換算)とアルカノールスルホン酸(アニオン換算)とチオ尿素類の単位リットル当たりの含有モル量の割合が、Sn2+/アルカノールスルホン酸/チオ尿素類=0.01〜2/1.4〜8/0.6〜5であることを特徴とする無電解スズメッキ浴。
Fターム (5件)：
4K022AA02
, 4K022BA21
, 4K022DA01
, 4K022DB01
, 4K022DB02
