特許

J-GLOBAL ID：200903042634051384

反射防止膜形成用組成物

発明者： 井口 悦子 ,  田中 健 ,  脇屋 和正
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-342044
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148791
出願日： 2000年11月09日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 ホトレジスト層と基板の間に設けられる反射防止膜を形成するための組成物であって、より微細な加工のためにエキシマレーザー光等を光源として用いても、パターン下部に発生する裾引きやくびれ等の現象を起すことなく、基板に対して断面形状が矩形のホトレジストパターンを与える反射防止膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 ヒドロキシアルキル基またはアルコキシアルキル基、あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれる少なくとも1種である架橋剤と、酸性化合物を含む反射防止膜形成用組成物において、前記架橋剤は、3量体以下の低量体が占める割合を15重量%以下に調整したことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

ヒドロキシアルキル基またはアルコキシアルキル基、あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれる少なくとも1種である架橋剤と、酸性化合物を含む反射防止膜形成用組成物において、前記架橋剤は、3量体以下の低量体が占める割合を15重量%以下に調整したことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 506 ,  C09D179/02 ,  G02B 1/11 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 506 ,  C09D179/02 ,  G03F 7/11 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574

Fターム (29件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025CC17 ,  2H025DA34 ,  2K009AA04 ,  2K009BB04 ,  2K009CC21 ,  2K009CC24 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  4J038DA141 ,  4J038DA161 ,  4J038DA171 ,  4J038GA02 ,  4J038GA03 ,  4J038GA09 ,  4J038HA366 ,  4J038HA376 ,  4J038JC13 ,  4J038KA03 ,  4J038KA04 ,  4J038MA14 ,  4J038NA19 ,  4J038PB03 ,  4J038PB08 ,  5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 熱硬化性反射防止性コーティングおよびその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-509244   出願人：ブリューアーサイエンスインコーポレイテッド
• 下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-186575   出願人：株式会社東芝
• ネガ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-294623   出願人：三菱化成株式会社