特許
J-GLOBAL ID：200903042803132909
3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-147710
公開番号（公開出願番号）：特開2006-321767
出願日： 2005年05月20日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】 反応で副生するジ(メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフランを除去し、純度の高い3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する工業的に実施可能な製造方法を提供する。【解決手段】 下式(1)3,4-ジヒドロキシテトラヒドロフランを(メタ)アクリロイル化して一般式(2)3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造するにあたり、(メタ)アクリロイル化反応後、副生する一般式(3)ジ(メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフランを少なくとも水および炭化水素を含有する抽出溶媒により抽出除去し、3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する。(式(2)及び(3)中、R1は下記一般式(4)で表される(メタ)アクリロイル基である。)(式(4)中、R2は水素原子またはメチル基であり、波線は結合部位を示す。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)に示される3,4-ジヒドロキシテトラヒドロフランを(メタ)アクリロイル化して下記一般式(2)に示される3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造するにあたり、(メタ)アクリロイル化反応後、副生する下記一般式(3)に示されるジ(メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフランを少なくとも水および炭化水素を含有する抽出溶媒により抽出除去することを特徴とする3-(メタ)アクリロイロオキシ-4-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4C037DA07
, 4J100AL08P
, 4J100BA03P
, 4J100BC53P
