特許
J-GLOBAL ID：200903042872448217
酸化膜改質方法とその装置及びプロセス装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
橋本 剛
, 鵜澤 英久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-076899
公開番号（公開出願番号）：特開2009-260333
出願日： 2009年03月26日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】化学蒸着法によって形成された酸化膜の膜質を向上させること。【解決手段】酸化膜改質装置1は、化学蒸着法によって酸化膜(例えばシリコン酸化膜)が形成された基板2を格納すると共にオゾン含有ガスが供給される処理炉3と、この処理炉3内の基板2上の酸化膜に紫外光を有する光を照射する光源4を備える。光源4は前記オゾン含有ガスの供給と同時に前記光を照射する。前記オゾン含有ガスの雰囲気の圧力は例えば0.1〜30Paに制御される。前記オゾン含有ガスは例えばオゾン濃度が0.1〜100vol%である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
化学蒸着法によって形成された基板上の酸化膜に対してオゾン含有ガスを供給すると共に紫外光を有する光を照射する
ことを特徴とする酸化膜改質方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA44
, 4K030CA04
, 4K030DA08
, 4K030FA10
, 4K030JA06
, 4K030JA09
, 4K030LA02
, 4K030LA15
, 5F058BA20
, 5F058BC02
, 5F058BF06
, 5F058BF25
, 5F058BF27
, 5F058BF29
, 5F058BH03
, 5F058BH17
, 5F058BJ04
