特許

J-GLOBAL ID：200903043012727565

真空処理装置

発明者： 竹井 日出夫 ,  崎尾 進
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (2件)： 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-017664
公開番号（公開出願番号）：特開2009-182023
出願日： 2008年01月29日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：

【要 約】【課題】マイクロ波が漏出せず、寿命の長い真空処理装置を提供する。【解決手段】本発明の真空処理装置1は、導電性弾性部材(第一の弾性部材55)を有しており、第一の弾性部材55は弾性変形して接地電極膜34と真空槽12に密着するから、接触面積が高く、接地電極膜34が真空槽12に電気的に接続される。導電性シールド33は接地電極膜34と第一の弾性部材55とを介して真空槽12に電気的に接続される。従って、マイクロ波を放出する際、導電性シールド33と貫通孔9内壁面との間の隙間で異常放電が起こらない。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

真空槽と、アンテナ容器と、アンテナとを有し、 前記アンテナ容器は、容器本体の開口の縁部分にフランジ部が設けられ、 前記アンテナ容器は、前記フランジ部が前記真空槽の外側に位置し、前記容器本体が前記真空槽の貫通孔内に位置するように配置され、 前記容器本体の側面の少なくとも前記貫通孔内に位置する部分には導電性シールド膜が配置され、 前記アンテナは、前記容器本体内に配置され、前記アンテナに高周波電圧を印加すると、前記アンテナから前記真空槽の内部空間に向けてマイクロ波が放出される真空処理装置であって、 前記フランジ部は、前記真空槽に向けられた表面に前記導電性シールド膜と電気的に接続された接地電極膜を有し、 前記接地電極膜と、前記真空槽との間には、少なくとも表面に導電性物質が露出する導電性弾性部材が配置され、 前記導電性弾性部材によって、前記接地電極膜と、前記真空槽とが電気的に接続された真空処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/507 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L21/31 E ,  H01L21/302 101D ,  C23C16/507 ,  C23C16/509 ,  H05H1/46 B

Fターム (20件)：

4K030FA04 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA16 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AC11 ,  5F045AE01 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EB10 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ放出装置及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-195290   出願人：日本真空技術株式会社
• マイクロ波装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-351628   出願人：ミクロ電子株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-065828   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-048596