特許
J-GLOBAL ID：200903043023472097

位置姿勢計測方法及び装置

発明者：
佐藤 清秀

佐藤 清秀 について

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内山 晋二

内山 晋二 について

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遠藤 隆明

遠藤 隆明 について

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守田 憲司

守田 憲司 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-026177
公開番号（公開出願番号）：特開2006-242943
出願日： 2006年02月02日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 安定性と精度とが両立した位置及び姿勢の計測を行うことの可能な位置姿勢測定装置を提供すること。【解決手段】 空間中に配置された指標を含む画像を撮像し、撮像画像から指標を検出する。複数の指標が検出された場合には、その分布範囲を求め、その大きさに応じて位置姿勢算出に適用するアルゴリズムを選択する(S3033、S3050、S3060)。例えば、指標が十分広い範囲に分布している場合は、撮像装置の位置及び姿勢の6パラメータを未知数として算出する(S3070)。指標の分布範囲が小さくなるほど、求めるべき未知パラメータの自由度を小さくする(S3035,S3025)。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
計測対象物体の位置及び姿勢を計測する位置姿勢計測方法であって、 撮像画像を取得する撮影画像取得工程と、 前記撮像画像に含まれる指標を検出する指標検出工程と、 前記指標検出工程により検出された前記指標の分布範囲に関する評価値を算出する分布範囲算出工程と、 前記検出された指標の画像座標に関する情報および前記分布範囲に関する評価値を用いて、前記計測対象物体の位置及び姿勢を算出する位置姿勢算出工程とを有することを特徴とする位置姿勢計測方法。
IPC (2件)：
G01B 11/00 ,  G01B 11/26
FI (2件)：
G01B11/00 H ,  G01B11/26 H
Fターム (18件)：
2F065AA04 ,  2F065AA37 ,  2F065BB27 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR07 ,  2F065SS13 ,  2F065UU05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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