特許

J-GLOBAL ID：200903043080419720

真空処理装置

発明者： 末代 政輔 ,  小田木 秀幸 ,  宍倉 真人
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-215790
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050252
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】小型で高スループットの真空処理装置を提供する。【解決手段】この真空処理装置3の真空槽11内に、水平姿勢と起立姿勢になれる基板ホルダ41、42を複数台設け、いずれか一台の基板ホルダ41を水平姿勢にし、他の基板ホルダ42を起立姿勢にすると、水平姿勢の基板ホルダ41と基板昇降機構との間で基板6の受け渡しができるように構成する。水平姿勢で基板を載置した後、その基板ホルダ41を起立姿勢にすると、基板6は垂直になるので、複数の基板を垂直な状態にしてスパッタリングを行うことができる。ダストが付着せず、欠陥が無い薄膜を効率よく形成できる。

請求項（抜粋）：

真空槽を有し、前記真空槽内には基板昇降機構と複数の基板ホルダとが配置された真空処理装置であって、前記各基板ホルダは水平姿勢と起立姿勢になれるように構成され、前記基板昇降機構が上下動すると、前記各基板ホルダのうち、水平姿勢にある基板ホルダとの間で水平状態の基板を受け渡しをできるように構成され、前記水平姿勢にある基板ホルダは、前記基板を保持した状態で起立姿勢になれるように構成されたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

C23C 14/50 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/56

FI (4件)：

C23C 14/50 F ,  C23C 14/50 K ,  B01J 3/00 L ,  C23C 14/56 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特公昭62-000996
  
• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-048255   出願人：株式会社日立製作所
• 加熱可能な旋回テーブル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-190884   出願人：ライボルトアクチエンゲゼルシヤフト
• スパッタリング方法、及び基板保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-236178   出願人：日本真空技術株式会社