特許
J-GLOBAL ID:200903043519063383
永久パターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-061383
公開番号(公開出願番号):特開2006-243543
出願日: 2005年03月04日
公開日(公表日): 2006年09月14日
要約:
【課題】 被膜特性に優れ、焼却時に有毒ガスを発生しない硬化膜を形成可能で、かつ前記感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、永久パターンを効率よく高精細に形成可能な永久パターン形成方法の提供。 【解決手段】 バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、着色剤とを少なくとも含み、前記着色剤が実質的にハロゲン原子を含まない感光性組成物を用いて、基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズ、及び前記描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズのいずれかを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、着色剤とを少なくとも含み、前記着色剤が実質的にハロゲン原子を含まない感光性組成物を用いて、基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、
光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
IPC (3件):
G03F 7/20
, G03F 7/004
, G03F 7/09
FI (4件):
G03F7/20 505
, G03F7/004 505
, G03F7/004 512
, G03F7/09 501
Fターム (33件):
2H025AA02
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC51
, 2H025BC74
, 2H025BC85
, 2H025CA01
, 2H025CA14
, 2H025CA18
, 2H025CA28
, 2H025CA31
, 2H025CA48
, 2H025CB52
, 2H025CC11
, 2H025CC20
, 2H025DA01
, 2H025DA19
, 2H025DA20
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA30
, 2H097BB01
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097FA02
, 2H097FA10
, 2H097GB03
, 2H097LA09
引用特許:
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