特許
J-GLOBAL ID：200903043632475248

極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法

発明者：
松尾 正

松尾 正 について

, 
西山 泰史

西山 泰史 について

, 
金山 浩一郎

金山 浩一郎 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-037103
公開番号（公開出願番号）：特開2006-228766
出願日： 2005年02月15日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：
【課題】EUV露光による転写解像性を向上させたEUV露光用マスク、EUV露光用マスクブランク及び露光方法を提供すること。【解決手段】基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜の一部の上に形成された単層膜からなる低反射部とを備える極端紫外線露光用マスクにおいて、前記低反射部からの反射光は、前記高反射部からの反射光に対して5〜15%の反射率であり、前記高反射部からの反射光に対し、175〜185度の位相差を有し、前記低反射部を構成する単層膜の露光波長に対する屈折率(1-δ)および消衰係数βは、屈折率(1-δ)および消衰係数βを座標軸とする平面座標において、所定の点座標(1-δ,β)を結ぶ領域内にあることを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜の一部の上に形成された単層膜からなる低反射部とを備える極端紫外線露光用マスクにおいて、前記低反射部から の反射光は、前記高反射部からの反射光に対して5〜15%の反射率であり、前記高反射部からの反射光に対し、175〜185度の位相差を有し、前記低反射部を構成する単層膜の露光波長に対する屈折率(1-δ)および消衰係数βは、屈折率(1-δ)および消衰係数βを座標軸とする平面座標において、下記の点座標(1-δ,β)を結ぶ領域内にあることを特徴とする極端紫外線露光用マスク。 (0.96,0.012)、(0.94,0.018)、(0.91,0.027)、(0.88,0.030)、(0.85,0.035)、(0.96,0.020)、(0.94,0.032)、(0.91,0.047)、(0.88,0.056)、(0.85,0.065)
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503
Fターム (11件)：
2H095BA10 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  2H095BC24 ,  2H097CA15 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GD10 ,  5F046GD16
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭58-173744号公報
  • 反射型フォトマスク
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-314292   出願人：三星電子株式会社, 株式会社日立製作所, 富士通株式会社
審査官引用 (3件)

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