化学研磨液含有廃液の処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-240954
公開番号（公開出願番号）：特開2004-074088
出願日： 2002年08月21日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】化学研磨液の廃液に含まれる過酸化水素及び/又は水質汚濁性有機物質を分解除去する効果的な方法を提供する。【解決手段】廃液処理系に、活性炭単独、あるいは活性炭と過酸化水素及び/又は鉄塩を合わせて加え、pH5以下の条件下で反応させることによって、化学研磨廃液中に含まれる過酸化水素のみならず水質汚濁性有機物質を一つの工程で効率よく分解除去できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

化学研磨液含有廃液に、活性炭単独、あるいは活性炭と鉄塩及び/又は過酸化水素を加え、pH5以下の条件下で反応させることを特徴とする、化学研磨液含有廃液の処理方法。

IPC (3件)：

C02F1/58 , B01J21/18 , C02F1/72

FI (3件)：

C02F1/58 H , B01J21/18 M , C02F1/72 Z

Fターム (24件)：

4D038AA08 , 4D038AB26 , 4D038BA06 , 4D038BB13 , 4D038BB16 , 4D050AA12 , 4D050AB11 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BB06 , 4D050BB09 , 4D050BB14 , 4D050BC05 , 4D050BD08 , 4D050CA13 , 4G069AA02 , 4G069AA11 , 4G069BA08A , 4G069BA08B , 4G069CA05 , 4G069CA10 , 4G069CA11 , 4G069DA03 , 4G069EA01Y

引用特許：

審査官引用 (11件)

CMP工程排水処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-113863 出願人：オルガノ株式会社
特開平4-300695
特開昭62-241596

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