特許

J-GLOBAL ID：200903043673890080

大気圧プラズマ処理装置

発明者： 杉山 昭
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-296768
公開番号（公開出願番号）：特開2007-109729
出願日： 2005年10月11日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】プラズマに影響を与えないでタクトタイムを短縮すること。【解決手段】処理ガスを用いたプラズマを生成するプラズマ生成空間と、被処理物の搬入口と前記空間とを連通し被処理物を前記空間へ搬入するための搬入路と、被処理物の搬出口と前記空間とを連通し被処理物を搬出するための搬出路と、搬出路に搬出方向に間隔を有して設けられる複数のシャッタとを備え、被処理物が搬出方向に所定長さを有し、複数のシャッタは被処理物が搬出路を通過中に選択的に開閉され、前記空間と搬出口との間が常に気密的に閉鎖される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理ガスを用いてプラズマを生成するプラズマ生成空間と、被処理物の搬入口と前記空間とを連通し被処理物を前記空間へ搬入するための搬入路と、被処理物の搬出口と前記空間とを連通し被処理物を搬出するための搬出路と、搬出路に搬出方向に間隔を有して設けられる複数のシャッタとを備え、被処理物が搬出方向に所定長さを有し、複数のシャッタは被処理物が搬出路を通過中に選択的に開閉され、前記空間と搬出口との間が常に気密的に閉鎖される大気圧プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H01L21/302 101E ,  H01L21/304 645C ,  H01L21/304 648L ,  B08B7/00 ,  H01L21/205

Fターム (28件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD33 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC01 ,  5F004BC03 ,  5F004BC06 ,  5F045AA08 ,  5F045AE29 ,  5F045BB08 ,  5F045CA13 ,  5F045DP23 ,  5F045EE13 ,  5F045EF05 ,  5F045EF18 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05 ,  5F045EH04 ,  5F045EH12 ,  5F045EJ05 ,  5F045GB15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-281708   出願人：松下電工株式会社

審査官引用 (2件)

• 常圧プラズマ処理装置およびレジスト剥離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-375959   出願人：積水化学工業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-275593   出願人：積水化学工業株式会社