特許
J-GLOBAL ID：200903043679853151

環状構造を有する含フッ素単量体、その製造方法、重合体、フォトレジスト組成物及びパターン形成方法

発明者：
金生 剛

金生 剛 について

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渡辺 武

渡辺 武 について

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大橋 正樹

大橋 正樹 について

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長谷川 幸士

長谷川 幸士 について

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橘 誠一郎

橘 誠一郎 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-308044
公開番号（公開出願番号）：特開2006-152255
出願日： 2005年10月24日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【解決手段】 下記一般式(1)で表される環状構造を有する含フッ素単量体。 【化1】(式中、Zは重合性不飽和基を含む二価の有機基を表す。)【効果】 本発明の新規な環状構造を有する含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長500nm以下、特に波長300nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつフェノール様酸性水酸基を有するため、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射性レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、適度な酸性を有する水酸基を効果的に利用することにより、例えば膨潤を軽減してパターン崩壊を防いだり、T-トップ形状発現を抑えて寸法均一性を向上させたりもできる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される環状構造を有する含フッ素単量体。
IPC (8件)：
C08F 20/28 ,  C08F 32/00 ,  C07D 307/20 ,  C07D 319/06 ,  C07D 309/12 ,  C07D 307/83 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
C08F20/28 ,  C08F32/00 ,  C07D307/20 ,  C07D319/06 ,  C07D309/12 ,  C07D307/83 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (25件)：
2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  4C022GA04 ,  4C037DA07 ,  4C037QA04 ,  4C062AA18 ,  4J100AL08P ,  4J100AR09P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA15P ,  4J100BB07P ,  4J100BB11P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC54P ,  4J100BC58P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)

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