特許
J-GLOBAL ID:200903043907394537

光学的立体造形方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 辻 良子 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-066399
公開番号(公開出願番号):特開2003-266546
出願日: 2002年03月12日
公開日(公表日): 2003年09月24日
要約:
【要約】【課題】 小型から大型に至る各種の立体造形物を高い造形精度で硬化むら生ずることなく、速い造形速度で生産性良く製造するための光造形方法および装置の提供。【解決手段】 マスク画像を動画的に連続的に変化させ得る面状描画マスクを使用し、面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面に対して平行状態で連続的に移動させると共に、面状描画マスクのマスク画像を、形成しようとする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移動と同期させて連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成する光造形方法及びそのための光造形装置。
請求項(抜粋):
光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成した後、該光硬化した樹脂層の上に1層分の光硬化性樹脂組成物を施し、該光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を更に形成する操作を所定の立体造形物が形成されるまで順次繰り返すことによって立体造形物を製造する方法であって、面状描画マスクとしてマスク画像を連続的に変化させ得る面状描画マスクを使用し、面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面に対して平行状態で連続的に移動させると共に、面状描画マスクのマスク画像を、形成しようとする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移動と同期させて連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成することを特徴とする光学的立体造形方法。
Fターム (20件):
4F213AA44 ,  4F213AB11 ,  4F213AB25 ,  4F213AC04 ,  4F213AC05 ,  4F213AJ08 ,  4F213WL02 ,  4F213WL10 ,  4F213WL13 ,  4F213WL23 ,  4F213WL43 ,  4F213WL67 ,  4F213WL74 ,  4F213WL75 ,  4F213WL78 ,  4F213WL80 ,  4F213WL83 ,  4F213WL85 ,  4F213WL87 ,  4F213WL96
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平3-281329
  • 特開平4-305438
  • 光造形装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-251072   出願人:日本合成ゴム株式会社
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