特許

J-GLOBAL ID：200903043910536407

微細パターン形成体の製造方法

発明者： 川口 泰秀
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186741
公開番号（公開出願番号）：特開2007-001250
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】微細パターン形成体の製造方法を提供する。【解決手段】基板と表面に微細パターンを有するモールドとを組み合わせて、重合性モノマー、含フッ素ポリマー、および重合開始剤を含む硬化性組成物を、該基板表面と該モールドのパターン面との間に挟持させる工程、前記硬化性組成物中の重合性モノマーを重合させて該組成物を硬化物とする工程、モールドを硬化物から剥離して基板と一体の微細パターン形成体を得る微細パターン形成体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記工程1、下記工程2、下記工程3、および任意に下記工程4を順に行うことにより、モールドの微細パターンが転写された表面を有する下記硬化物からなる微細パターン形成体または基板と一体の該微細パターン形成体を得ることを特徴とする微細パターン形成体の製造方法。 工程1:基板と表面に微細パターンを有するモールドとを組み合わせて、重合性モノマー、含フッ素ポリマー、および重合開始剤を含む硬化性組成物を、該基板表面と該モールドのパターン面との間に挟持させる工程。 工程2:前記硬化性組成物中の重合性モノマーを重合させて該組成物を硬化物とする工程。 工程3:モールドおよび基板の少なくとも一方を硬化物から剥離して、微細パターン形成体、基板と一体の微細パターン形成体、またはモールドと一体の微細パターン形成体を得る工程。 工程4:上記工程3においてモールドと一体の微細パターン形成体を得た場合はモールドと微細パターン形成体を剥離する工程。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  B81C 5/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/02 B ,  B81C5/00 ,  H01L21/30 502D

Fターム (22件)：

4F209AA16 ,  4F209AA21 ,  4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AB01 ,  4F209AC05 ,  4F209AD01 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC08 ,  4F209PH02 ,  4F209PH27 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ12 ,  5F046BA10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-513006   出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
• 段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-604271   出願人：ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム

審査官引用 (1件)

• 微細パターンの製造方法および転写材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-231139   出願人：鐘淵化学工業株式会社