特許
J-GLOBAL ID：200903044258138956
マスタリング原盤の製造方法及びマスタリング原盤の製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-125150
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306037
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 ガラス原盤1上にフォトレジスト層2を形成し、このフォトレジスト層2に対する露光及び現像工程によって、このフォトレジスト層2にグルーブ領域3を形成するマスタリング原盤の製造において、現像時間の制御により、グルーブの幅及び深さを正確に制御する。【解決手段】 複数の線状パターンがグルーブの目標幅の2倍のピッチで配列された現像モニタ領域をフォトレジスト層2に形成しておき、この現像モニタ領域を透過したレーザ光の線状パターンによる回折2次光D2をフォトダイオードPD2により検出する。線状パターンに沿って現像の進行に伴って形成される溝の幅がピッチの1/2となったときに回折2次光の光量が0になるので、このときに現像を停止する。
請求項（抜粋）：
転写手段により形成される光ディスク基板の原型となるマスタリング原盤の製造方法であって、透明基板の主面部に対して感光材料を塗布して該主面部上に感光材料層を形成し、上記感光材料層に対してこの感光材料が感度を有する波長の光によって露光し、該感光材料層の信号記録部形成領域には、上記光ディスク基板の信号記録部に形成されるべきグルーブのパターンに対応した第1の潜像パターンを形成するとともに、該感光材料層の現像進行モニタ領域には、該信号記録部形成領域において該第1の潜像パターンが現像されることにより形成されるグルーブの目標幅の2倍のピッチで複数の線状パターンが配列された第2の潜像パターンを形成し、現像液を上記感光材料層上に供給することにより上記各潜像パターンを現像しつつ、上記現像進行モニタ領域に、該感光材料が感度を有しない波長の光束を照射し、上記現像進行モニタ領域において上記第2の潜像パターンの現像の進行に伴って形成される複数の溝による上記光束の回折2次光の光量を検出し、上記回折2次光の光量が、上記各潜像パターンの現像開始後に一旦上昇した後、再び略々0になったときに、該現像の進行を停止させることとするマスタリング原盤の製造方法。
引用特許：
前のページに戻る
