特許

J-GLOBAL ID：200903044500112673

パターン形成方法

発明者： 林 利明 ,  高島 正伸
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (2件)： 廣田 浩一 ,  流 良広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-224738
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261629
出願日： 2005年08月02日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 【解決手段】 感光層を有し、該感光層がバインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、エラストマーと、熱架橋剤とを含むパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

感光層を有し、該感光層がバインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、エラストマーと、熱架橋剤とを含むパターン形成材料における該感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/11

FI (6件)：

H01L21/30 529 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/029 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC74 ,  2H025CA28 ,  2H025CA35 ,  2H025CA48 ,  2H025CB11 ,  2H025CB30 ,  2H025CB58 ,  2H025CC17 ,  2H025DA01 ,  2H025FA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046DA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 露光ヘッド及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-149886   出願人：富士写真フイルム株式会社, 富士写真光機株式会社
• 画像焼付装置およびこれを備えた写真処理装置、ならびに画像焼付方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-120068   出願人：ノーリツ鋼機株式会社
• マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-532621   出願人：ジョンソンケニスシー