特許
J-GLOBAL ID：200903044457684030

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
吉田 勲

吉田 勲 について

, 
原田 由香子

原田 由香子 について

, 
山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-292109
公開番号（公開出願番号）：特開2007-145824
出願日： 2006年10月27日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Xは単環式または2環式の炭素数3〜30の炭化水素基を表す。nは1〜12の整数を表し、A+は有機対イオンを表す。式中の環Xは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (5件)：
C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  C07C 309/60 ,  C07C 303/22 ,  C07D 333/46
FI (5件)：
C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  C07C309/60 ,  C07C303/22 ,  C07D333/46
Fターム (24件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006AB84 ,  4H006AC48 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB21 ,  4H006BB31 ,  4H006BE01 ,  4H006BE10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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