特許

J-GLOBAL ID：200903044675220266

複合物を研磨するための合成物及び方法

発明者： ホサリ シャラス ディー. ,  セズラマン アナンサ アール. ,  ワン ジウン-ファン ,  クック リー メルボルン
出願人/特許権者： ローデル ホールディングス インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 辻本 一義 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-515996
公開番号（公開出願番号）：特表2001-501369
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】シリカおよび窒化珪素からなる複合物を研磨するための合成物に関する。この合成物は、水性媒体、研磨粒子、界面活性剤、および、シリカ並びに窒化珪素と錯化する化合物からなり、この錯化剤は、二あるいはそれ以上の同じあるいは異なる官能基を有し、各官能基は分離可能陽子を有する。

請求項（抜粋）：

シリカ及び窒化珪素からなる複合物を研磨する方法であって、シリカ及び窒 化珪素からなる複合物と研磨パッドの間の研磨インターフェースにスラリーを 付与する工程を含むものであり、このスラリーは、水性媒体、研磨粒子、界面 活性剤並びに前記シリカ及び窒化珪素と錯化する化合物からなり、この化合物 が二つ以上の同じあるいは異なる官能基を有し、各官能基が分離可能陽子を有 しているものであることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 研磨用合成物および研磨方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-501033   出願人：ローデルインコーポレイテッド
• 銅系金属用研磨液および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-263613   出願人：株式会社東芝
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-012592   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド