露光装置、ガス置換方法、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-085531
公開番号（公開出願番号）：特開2001-345262
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】半導体露光装置の露光光の光路周辺を密閉するような容器内の大気を速やかに低下させる。【解決手段】露光装置は、光学素子を内部に有し、所定の領域を囲むチャンバーと、そのチャンバーを囲む密閉容器と、そのチャンバー内を減圧するポンプとを有し、そのチャンバー内を減圧するときに、該密閉容器も減圧する構成とした。

請求項（抜粋）：

露光装置であって、光学素子を内部に有し、所定の領域を囲むチャンバーと、該チャンバーを囲む密閉容器と、該チャンバー内を減圧するポンプとを有し、該チャンバー内を減圧するときに、該密閉容器も減圧することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 Z

Fターム (14件)：

5F046AA22 , 5F046AA28 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA08 , 5F046CB19 , 5F046CB20 , 5F046CB23 , 5F046CB24 , 5F046DA04 , 5F046DA27 , 5F046DB03 , 5F046DB04 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (7件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-344590 出願人：株式会社ニコン
露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-023278 出願人：キヤノン株式会社
特開平3-088400

全件表示

前のページに戻る