特許
J-GLOBAL ID：200903045051384066

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
錦戸 修一

錦戸 修一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-155055
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340381
出願日： 2004年05月25日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 処理液により処理され、更に洗浄液により洗浄された後の基板に付着した液を吸引ノズルで吸引して乾燥させること【解決手段】 基板の表面に所定の処理液を供給して当該基板に対し所定の処理を行う基板処理装置において、処理液により処理され、更に洗浄液により洗浄された基板を水平に保持し、負圧にされた吸引口を有する吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させることにより基板に付着した液を吸引除去する。このとき前記吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した前記吸引口の部位と対向するように吸引抵抗体を配置する構成とする。この場合、基板の外にはみ出した吸引口の部位に吸引抵抗を持たせたことにより、基板の表面と対向する吸引口の部位の吸引作用が弱くなるのを抑えることができるので、付着した液を充分に除去して当該基板を乾燥させることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に所定の処理液を供給して当該基板に対し所定の処理を行う基板処理装置において、 基板を水平に保持する基板保持部と、 この基板保持部に保持され、前記処理液により所定の処理がされた後の基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、 基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有し、基板の表面にある洗浄液を当該吸引口から吸引する吸引ノズルと、 この吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる移動機構と、 前記吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した前記吸引口の部位と対向するように設けられた吸引抵抗体と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L21/304
FI (2件)：
H01L21/304 651Z ,  H01L21/304 651L
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 現像装置及び現像方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-269320   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 処理方法及び処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-200289   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
審査官引用 (4件)
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