特許
J-GLOBAL ID:200903045078665296

感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-301288
公開番号(公開出願番号):特開2008-116785
出願日: 2006年11月07日
公開日(公表日): 2008年05月22日
要約:
【課題】高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持つ硬化膜を得ることができ、かつ低い露光量でのパターン形成が可能である、TFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 【解決手段】(a)ポリシロキサン、(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤を含有する感光性シロキサン組成物であって、その組成物中の水の含有率が2重量%を超えて10重量%以下である感光性シロキサン組成物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(a)ポリシロキサン、(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤を含有する感光性シロキサン組成物であって、その組成物中の水の含有率が2重量%を超えて10重量%以下である感光性シロキサン組成物。
IPC (3件):
G03F 7/023 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F7/023 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件):
2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB33 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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