特許
J-GLOBAL ID：200903045121006765

露光フィールド内露光量均一性測定方法、レチクル、及びスキャン型露光装置

発明者：
植松 政也

植松 政也 について

, 
宮崎 順二

宮崎 順二 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体先端テクノロジーズ

株式会社半導体先端テクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155509
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348999
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造におけるスキャン型露光装置によるパターンの露光において、露光フィールド内の露光量の測定を正確に行い行う。【解決手段】スキャン型露光装置において露光量均一性を測定する際に、露光フィールド内に複数の露光量測定ポイントを設定する。そして、照明エリアを測定ポイントが通過するのに同期させて、ウェーハステージ上の露光量センサーのスキャンニングを行い、露光量を測定する。これを各測定ポイントで繰り返す事により、実際の露光動作のように、レチクルステージとウェーハステージのスキャンニングを行いながら、露光フィールド内の露光量分布をマップとして把握する。
請求項（抜粋）：
スキャン型露光装置において、レチクルステージとウェーハステージとを対応させてスキャンし、露光フィールド内の複数の照度測定ポイントにおける露光量を測定することにより、露光フィールド内の露光量の均一性を求めることを特徴とする露光フィールド内露光量均一性測定方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 518
Fターム (8件)：
5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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