特許

J-GLOBAL ID：200903045263597922

化学増幅型ホトレジスト組成物

発明者： 陳 啓盛 ,  蔡 茜茜 ,  簡 ▲ひん▼ ,  廖 信銘
出願人/特許権者： 臺灣永光化學工業股▲ふん▼有限公司
代理人 (5件)： 竹本 松司 ,  杉山 秀雄 ,  湯田 浩一 ,  魚住 高博 ,  手島 直彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-085353
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302463
出願日： 2004年03月23日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】 現在一般的に行なわれているリソグラフィー工程、特に波長193nm光源のリソグラフィー工程に対して、良好なリソグラフィー図形、解析度、輪郭と感光度を得られるようにする化学増幅型ホトレジスト組成物の提供。【解決手段】 一般式(I)で示される構造ユニットを具えた高分子ポリマーであり、【化191】そのうち、R1 はH、又はC1 -C4 のアルキル基、或いはCF3 、QはC4 -C12の環状アルキル基、R2 はH、又はC1 -C4 のアルキル基、或いはCF3 、R3 はC4 -C12の分岐或いは環状アルキル基、且つx+y+z=1である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

以下の一般式(I)に示される構造ユニットを具えた高分子ポリマーを含有する化学増幅型ホトレジスト組成物であり、

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F220/12 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F220/12 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

Fターム (44件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09Q ,  4J100AK32R ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08S ,  4J100AL69P ,  4J100AL71P ,  4J100BA03S ,  4J100BA04P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA22 ,  4J100DA25 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第6,306,554号明細書
  

審査官引用 (4件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-003702   出願人：富士写真フイルム株式会社
• アダマンチルアルキルビニルエーテルの共重合体を含む感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-176840   出願人：三星電子株式会社
• 感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-009484   出願人：三星電子株式会社
• アルキルビニールエーテルの共重合体を含む感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-012171   出願人：三星電子株式会社