感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-009484
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313249
出願日： 2003年01月17日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 PAGと感光性ポリマーとを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】 PAGと、酸により分解可能な置換基または極性作用基を有するコモノマーと、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体とを含む感光性ポリマーよりなるレジスト組成物。前記共重合体は次の式で表示される;【化1】(式中、kは3〜8の整数であり、XはC7〜C20の第3級環状アルコール由来の水酸基を有する1価の基である。)。

請求項（抜粋）：

次の式で表示される、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体を含む感光性ポリマー;【化1】(式中、kは3〜8の整数であり、XはC7〜C20の第3級環状アルコール(tertiary cyclic alcohol)由来の水酸基を有する1価の基である。)。

IPC (5件)：

C08F216/20 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5件)：

C08F216/20 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AE09P , 4J100AE09Q , 4J100AE09R , 4J100AK32P , 4J100AK32Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AR11R , 4J100AR11S , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA15R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第5,843,624号明細書
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188853 出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (2件)

遠紫外線露光用ネガ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-154644 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性ポリマーおよびこれを含有する化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-354974 出願人：三星電子株式会社

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