特許

J-GLOBAL ID：200903045300539768

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ストリーフケルク,ボブ ,  ヴァン ドメレン,ユーリ,ヨハネス,ラウレンティウス,マリア ,  ムルマン,リシャルト ,  グラウストラ,セドリック,デジレ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237470
公開番号（公開出願番号）：特開2008-078648
出願日： 2007年09月13日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】液浸リソグラフィ装置で液浸液の使用によって持ち込まれる欠陥を減少させる装置および動作方法を提供する。【解決手段】放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、液体を基板の上面の局所的区域に提供するように構成された液体供給システムと、前記液体を通して前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、1列のダイを前記基板全体に結像する間に、前記基板テーブルと前記支持体との動作を整合させるような構成であり、前記ダイの列が前記投影システム下で、前記上面に実質的に平行な面にある第一方向に実質的に平行な方向で後方および/または前方にのみ動作することによって整合が達成される制御装置とを備えるリソグラフィ装置。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、 基板を保持するように構成された基板テーブルと、 液体を基板の上面の局所的区域に提供するように構成された液体供給システムと、 前記液体を通して前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、 1列のダイを前記基板全体に結像する間に、前記基板テーブルと前記支持体との動作を整合させるような構成であり、前記ダイの列が前記投影システム下で、前記上面に実質的に平行な面にある第一方向に実質的に平行な方向で後方および/または前方にのみ動作することによって整合が達成される制御装置と、 を備えるリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516B

Fターム (7件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-301748   出願人：株式会社東芝
• デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-124989   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 露光装置ならびにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-184045   出願人：キヤノン株式会社