特許
J-GLOBAL ID：200903045325077831

光導波路の形成方法、光導波路、光回路基板および電子機器

発明者：
西島 辰巳

西島 辰巳 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-003414
公開番号（公開出願番号）：特開2006-194919
出願日： 2005年01月11日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】信頼性および耐久性に優れる光導波路を容易かつ安価に形成し得る光導波路の形成方法、かかる光導波路の形成方法により形成された光導波路、この光導波路を備える光回路基板および電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の光導波路の形成方法は、基板2上に、第1のクラッド層11を形成する第1の工程と、第1のクラッド層11上に、第1のクラッド層11より屈折率が大きいコア層12を形成する第2の工程と、コア層12を被覆するように、コア層12より屈折率が小さい第2のクラッド層13を形成する第3の工程とを有し、第1の工程、第2の工程および第3の工程において、第1のクラッド層11、コア層12および第2のクラッド層13を、それぞれ、気化したシリコーンオイルをプラズマ重合させることにより形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1のクラッド層を形成する第1の工程と、 該第1のクラッド層上に、前記第1のクラッド層より屈折率が大きいコア層を形成する第2の工程と、 該コア層を被覆するように、前記コア層より屈折率が小さい第2のクラッド層を形成する第3の工程とを有し、 前記第1の工程、前記第2の工程および前記第3の工程において、前記第1のクラッド層、前記コア層および前記第2のクラッド層を、それぞれ、気化したシリコーンオイルをプラズマ重合させることにより形成することを特徴とする光導波路の形成方法。
IPC (1件)：
G02B 6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (8件)：
2H047PA05 ,  2H047PA15 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  2H047TA41
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM